Descripción
El sistema Alphacen 300 AFM tiene una plataforma de análisis de muestra que puede moverse 300 mm x 300 mm en XY. A petición, la plataforma puede ser modificada para manejar un rango mayor en X (hasta 500 mm). El recorrido de la etapa Z de 50 mm también permite obtener imágenes de muestras que no son obleas finas de silicio. La etapa XY tiene una resolución de 1 µm y una precisión de reposicionamiento unilateral de 2 µm que permite un posicionamiento preciso de la muestra bajo la punta.
El Alphacen 300 incluye un potente software de automatización que permite al usuario preseleccionar los lugares de interés, ya sea en una imagen óptica o en un mapa escénico, y dejar que el sistema recoja las imágenes sin intervención del usuario.
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Equipo de difracción de rayos X (SAXS/WAXS), XEUSS
La caracterización de nanomateriales mediante técnicas no intrusivas SAXS (Small-Angle X-ray Scattering) y WAXS (Wide-Angle X-ray Scattering) es fundamental para comprender su estructura interna, morfología (tamaño y forma de partículas), estados de agregación y otras propiedades a escala nanométrica. De la mano de nuestro socio Xenocs proporcionamos soluciones para la caracterización de nanoestructuras utilizando técnica de dispersión de rayos X de ángulo pequeño y gran angular (SAXS y WAXS respectivamente). Los equipos permiten trabajar en la investigación, desarrollo y producción de materiales avanzados. Desde su creación en el año 2000, Xenocs ha consolidado una sólida reputación por su experiencia en tecnología de rayos X, sus soluciones actuales se basan en componentes y tecnologías clave que son fruto de más de 14 años de investigación y desarrollo en la empresa.
